电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积系统
技术参数
1。ECR微波等离子体源&和电源:
•圆形
8,12inch等离子体源
频率2.46GHz
微波发生器,电磁铁和3个调谐器
•矩形等离子体源
长度:500to1,000mm(upto2,000mmforlargeplanarareadeposition)
•电源
微波电源:50-1,200W(upto10kW)
反射微波功率测量
磁体电源:600W(100V,6A)
2。薄膜沉积控制:
•膜厚检测和处理时间可通过计算机程序控制
•膜厚检测和处理速度可通过计算机程序控制
支持大面积沉积(如:氧化硅、氮化硅等)
可升级为在线ECR-PECVD系统
•质量流量和自动压力控制
质量流量控制器:各种气体
Baratron真空规:等离子体处理
节流阀和控制器
3。真空室:
•圆形腔体
•直径:φ400~600mm(Substrate:2to15inch)
•高度:400~700mm
•方形腔体
•根据用户需求定制
4。真空泵和测量装置:
•低真空:干泵,增压泵和Convectron真空规
•高真空:涡轮分子泵和离子规
5。控制系统:PLC,计算机触摸屏控制
主要特点
扩展功能:
•射频电源:基底偏压
•带自动样品递送装置的Loadlock样品加载室
•温度控制器:基底加热
•蒸镀cellfordopingonfilm
•基底旋转功能:以提供薄膜厚度和热均匀性
•大面积基底平移系统
•冷却系统g
ECR特点:
•更高的离子化程度
•更高的离子密度、低压下<10-4Torr下粒子的活性
•更低的污染:因为无需电极
•适用于等离子体清洗,表面活化/改性和薄膜沉积
仪器介绍
全球专业的沉积设备制造商,为各个领域的客户提供完善的薄膜沉积解决方案:电子束蒸发系统、热蒸发系统、超高真空蒸发系统、分子束外延MBE、有机分子束沉积OMBD、等离子增强化学气相淀积系统PECVD/ICPEtcher、电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积、离子泵等;
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